CHLUMICRYL® 207 CAS 15957-34-3

O 207 é um oxetano bifuncional adequado para cura catiônica. Ele pode melhorar a velocidade de cura e reduzir o encolhimento. Devido à sua estrutura exclusiva, que possui epóxi ternário e quaternário, o 207 tem viscosidade muito baixa e grande diluição.

Informações sobre o produto

Nome químico:(3-Etil-3-((oxiran-2-ilmetoxi) metil)oxetano

Peso molecular:172.22

Número CAS:15957-34-3

Descrição

Parâmetros técnicos

Aparência:

Líquido transparente incolor

Pureza (GC):≥97,00

Conteúdo de água: ≤0,30%

Benefícios

Alta reatividade

Viscosidade muito baixa

Aplicativos

O 207 é usado principalmente como monômero para jato de tinta e também pode ser usado para diluir outros oxetanos, resinas e monômeros.

Armazenamento e embalagem

Mantenha-o em um recipiente bem fechado e armazene-o em um local fresco, seco, escuro e ventilado. Válido a partir da data de produção, dentro de 1 ano. Embalagem: 200 kg/tambor.

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207 Cenários de aplicativos

1. Revestimentos catiônicos de cura UV/térmica:

Usado como diluente reativo ou monômero de reticulação em sistemas de revestimento de cura catiônica UV/térmica, reduzindo a viscosidade e aumentando a densidade de reticulação. O revestimento curado apresenta excelente resistência química, adesão e resistência a intempéries, sendo adequado para proteção industrial e decoração de substratos como metais, plásticos e madeira, especialmente para revestimentos que exigem alta resistência a intempéries e baixo amarelamento.

2. Materiais e embalagens eletrônicos:

Usado em tintas de máscara de solda para PCB, materiais de encapsulamento de componentes eletrônicos e revestimentos isolantes. O material curado apresenta propriedades dielétricas estáveis, excelente isolamento e resistência à umidade e ao calor, garantindo a operação estável de dispositivos eletrônicos em condições de trabalho complexas. Adequado para embalagens microeletrônicas e processamento de precisão de placas de circuito.

3. Preparação do material óptico:

Aplicado em filmes ópticos, adesivos ópticos e outros campos, ele reduz o encolhimento do volume de cura, melhora a estabilidade dimensional e a transmissão de luz dos componentes ópticos, atendendo aos requisitos de alta precisão e alta transparência das lentes ópticas e dos dispositivos de exibição.

4. Fotoresistências e processamento microeletrônico:

Usado como componente de reticulação ou matriz de resina em fotorresistências, compatível com i-line, KrF e outros processos de fotolitografia, facilitando a preparação de padrões de alta resolução. Adequado para o processamento de precisão de chips semicondutores e dispositivos microeletrônicos, melhorando a integração e a confiabilidade do dispositivo.

5. Adesivos e selantes especiais:

Usado na preparação de adesivos e selantes de cura catiônica, melhorando a fluidez e a molhabilidade do produto e aprimorando a força de ligação e o efeito de vedação em substratos como metais, cerâmicas e plásticos de engenharia. Adequado para colagem estrutural e vedação em campos industriais de ponta, como a indústria aeroespacial e automotiva.

6. Resinas de matriz de material composto:

Combinado com fibras de vidro, fibras de carbono e outros materiais para preparar materiais compostos de alto desempenho, melhorando a resistência mecânica, a resistência ao envelhecimento e a fluidez do processamento dos materiais. Adequado para a preparação de componentes estruturais com requisitos rigorosos para o desempenho geral do material no setor aeroespacial e de trânsito ferroviário.

7. Modificação e síntese de resinas:

Usado como monômero modificador na síntese e modificação de resinas epóxi, resinas de poliéster etc., reduzindo a viscosidade do sistema e melhorando a flexibilidade, a resistência a intempéries e a resistência química do produto curado. Adequado para o desenvolvimento de sistemas de resina com requisitos de alto desempenho.

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