1. Semiconduttore Linea G Fotoresist Campo:

Utilizzato nei fotoresistenti positivi della linea G (436 nm), è adatto per il trasferimento di modelli a livello di micron su wafer nella produzione di circuiti integrati (IC), migliorando la risoluzione litografica e la chiarezza dei bordi e soddisfacendo i requisiti di lavorazione fine della produzione di chip semiconduttori.

2. Campo di produzione dei display a schermo piatto:

Utilizzati nel processo di fotolitografia degli schermi a cristalli liquidi a transistor sottili (TFT-LCD), come filtri colorati, matrici nere e strati di definizione dei pixel, migliorano la qualità dell'immagine e la risoluzione dei pannelli di visualizzazione.

3. Litografia di PCB e campo di film secco:

Utilizzato nei fotoresist e nei film secchi per circuiti stampati (PCB), è adatto per la fabbricazione di linee sottili di PCB ad alta densità, per aumentare la fotosensibilità e la precisione di sviluppo e per migliorare la stabilità e la resistenza chimica dei modelli di circuito.

4. Produzione di lastre da stampa e materiali fotosensibili:

Utilizzato nelle lastre da stampa litografiche, nelle lastre di resina fotosensibile, ecc. per avviare reazioni fotochimiche per il trasferimento del modello, adatto per la lavorazione fine delle lastre da stampa, per migliorare la durata della stampa e la chiarezza del modello delle lastre da stampa.

5. Materiali ottici e campo della microelettronica:

Utilizzato in pellicole ottiche, materiali fotosensibili per fotoresistenze, ecc. come fotosensibilizzante per migliorare la fotosensibilità e la qualità dell'immagine dei sistemi fotosensibili, adatto alla produzione di componenti ottici, alla lavorazione fine della microelettronica e ad altri processi.

6. Campo della sintesi chimica fine:

Utilizzato come intermedio di sintesi organica per la sintesi di specifici materiali funzionali e prodotti di chimica fine, adatto alla costruzione di specifiche strutture molecolari fotosensibili nella ricerca di laboratorio e nella produzione industriale.

7. Altri campi dei sistemi fotosensibili:

Utilizzato nei processi di fotolitografia per sistemi microelettromeccanici (MEMS), biochip, ecc., è adatto a vari sistemi fotosensibili e tecnologie di lavorazione, migliorando la precisione di lavorazione e la stabilità delle prestazioni delle microstrutture.