1. Félvezető G-vonalú fotoreziszt mező:

A G-vonalú (436 nm) pozitív fotorezisztekben használják, amelyek alkalmasak az integrált áramkörök (IC) gyártásában a mikron-szintű mintaátvitelre az ostyákon, javítják a litográfiai felbontást és a szélek tisztaságát, és megfelelnek a félvezető chipek gyártásának finom feldolgozási követelményeinek.

2. Lapos kijelző gyártás területén:

A vékonyréteg-tranzisztoros folyadékkristályos kijelzők (TFT-LCD-k) fotolitográfiai folyamatában használt, például színszűrők, fekete mátrixok és pixeldefiníciós rétegek, amelyek javítják a kijelzőpanelek képminőségét és felbontását.

3. PCB litográfia és szárazfilmes mező:

A nyomtatott áramköri lapokhoz (PCB-k) használt fotorezisztekben és száraz filmekben, amelyek alkalmasak a nagy sűrűségű PCB-k finom vonalú gyártására, a fényérzékenység és a fejlesztési pontosság fokozására, valamint az áramköri minták stabilitásának és kémiai ellenállásának javítására.

4. Nyomólemezkészítés és fényérzékeny anyagok szakterület:

Litográfiai nyomólemezekben, fényérzékeny gyantalemezekben stb. használják a mintaátvitelhez szükséges fotokémiai reakciók beindítására, alkalmas a nyomólemezek finom feldolgozására, a nyomtatás tartósságának és a minta tisztaságának javítására.

5. Optikai anyagok és mikroelektronika területe:

Optikai filmekben, fotorezisztek fényérzékeny anyagaiban stb. fényérzékenyítő anyagként használják a fényérzékeny rendszerek fényérzékenységének és képalkotási minőségének javítására, alkalmas optikai alkatrészgyártáshoz, mikroelektronikai finomfeldolgozáshoz és egyéb folyamatokhoz.

6. Finomkémiai szintézis területe:

Szerves szintézis közbenső termékként használják speciális funkcionális anyagok és finomkémiai anyagok szintéziséhez, amely alkalmas speciális fényérzékeny molekulaszerkezetek felépítésére a laboratóriumi kutatásban és az ipari termelésben.

7. Egyéb fényérzékeny rendszerek Mezők:

Mikroelektromechanikus rendszerek (MEMS), biochipek stb. fotolitográfiás folyamataiban használatos, különböző fényérzékeny rendszerekhez és feldolgozási technológiákhoz alkalmas, javítja a mikroszerkezetek feldolgozási pontosságát és teljesítményének stabilitását.