1. Lichtempfindliche Beschichtung für PS-Platten:

Als zentraler Photosensibilisator für PS-Platten (vorbeschichtete lichtempfindliche Platten) führt er bei UV-Lichteinwirkung eine Photodegradationsreaktion durch, bei der in alkalischen Entwicklern lösliche Produkte entstehen. Dies ermöglicht die präzise Übertragung von Mustern auf die Platte, die Anpassung an den Offsetdruck und andere Druckverfahren sowie die Verbesserung der Genauigkeit der Plattenherstellung und der Druckqualität.

2. Photoresist:

Es wird zur Herstellung von Positiv-Fotoresisten verwendet und findet Anwendung bei der Herstellung feiner Muster für elektronische Geräte wie Leiterplatten (PCBs) und Flüssigkristallanzeigen (LCDs). Nach der Fotolithografie und Entwicklung bildet es hochpräzise, ätzresistente Muster, die die Ätz- und Abscheidungsprozesse elektronischer Bauteile erleichtern.

3. Zwischenprodukt für die Synthese von lichtempfindlichem Material:

Als wichtiges Zwischenprodukt wird es für die Synthese anderer Naphthochinondiazid-Photosensibilisatoren verwendet, z. B. für die Reaktion mit Polyolen zur Herstellung hochmolekularer lichtempfindlicher Harze, die bei der Herstellung funktioneller Materialien wie Filmen und lichtempfindlichen Beschichtungen verwendet werden.

4. Funktionelle Polymermodifikation:

Durch die Reaktivität der Sulfonylchloridgruppe können Polymere photosensitiv modifiziert werden, um Polymermaterialien mit photoempfindlichen Eigenschaften herzustellen. Dies eignet sich für Anwendungen in elektronischen Verpackungen, Präzisionsbeschichtungen und anderen Bereichen und verbessert die photochemische Verarbeitungsleistung der Materialien.

5. Feinchemische Synthese:

Es wird bei der Synthese von speziellen Farbstoffen, Pigmenten und lichtempfindlichen Additiven verwendet. Seine Molekularstruktur enthält Diazo- und Sulfonylchloridgruppen, die an verschiedenen organischen Reaktionen teilnehmen können und eine Grundlage für die Herstellung komplexer funktioneller Verbindungen bilden.

6. Forschung und maßgeschneiderte lichtempfindliche Anwendungen:

Es wird als Modellverbindung in der Forschung zu photochemischen Mechanismen und zum Testen der Leistung lichtempfindlicher Materialien verwendet, kann aber auch für Nischenanwendungen auf der Grundlage spezifischer Anforderungen angepasst werden, z. B. für lichtempfindliche Beschichtungen für Miniatursensoren.