1. PS 플레이트용 감광성 코팅:

PS 플레이트(사전 코팅된 감광성 플레이트)의 핵심 감광제로서 자외선 노출 시 광분해 반응을 일으켜 알칼리성 현상액에 용해되는 생성물을 생성합니다. 이를 통해 패턴을 플레이트에 정밀하게 전송하고 오프셋 인쇄 및 기타 인쇄 프로세스에 적응하며 플레이트 제작 정확도와 인쇄 품질을 향상시킬 수 있습니다.

2. 포토레지스트:

포지티브 포토레지스트의 제조에 사용되며 인쇄 회로 기판(PCB) 및 액정 디스플레이(LCD)와 같은 전자 장치의 미세 패턴 제작에 적용됩니다. 포토리소그래피 및 현상 후 고정밀 에칭 방지 패턴을 형성하여 전자 부품의 에칭 및 증착 공정을 용이하게 합니다.

3. 감광성 재료 합성을 위한 중급:

주요 중간체로서 폴리올과 반응하여 고분자량 감광성 수지를 제조하는 등 다른 나프토퀴논 디아지드 감광제를 합성하는 데 사용되며, 감광 필름 및 감광 코팅과 같은 기능성 소재의 제조에 사용됩니다.

4. 기능성 폴리머 수정:

설포닐 클로라이드기의 반응성을 통해 폴리머를 감광성 개질하여 광반응 특성을 가진 폴리머 소재를 제조하는 데 사용됩니다. 이는 전자 패키징, 정밀 코팅 및 기타 분야의 응용 분야에 적합하며 재료의 광화학 처리 성능을 향상시킵니다.

5. 정밀 화학 합성:

특수 염료, 안료 및 감광성 첨가제의 합성에 사용되는 분자 구조에는 다양한 유기 반응에 참여할 수 있는 디아조 및 염화 설포닐 그룹이 포함되어 있어 복잡한 기능성 화합물 제조의 기초를 제공합니다.

6. 연구 및 맞춤형 감광성 애플리케이션:

광화학 메커니즘 연구 및 감광성 물질의 성능 테스트에서 모델 화합물로 사용되며, 소형 센서용 감광 코팅과 같은 특정 요구 사항에 따라 틈새 응용 분야에 맞게 맞춤화할 수도 있습니다.