1. Synthese van ArF-fotoresisthars:

Het is een belangrijk comonomeer voor ArF (193nm) fotoresisten en wordt gebruikt om het hoofdhars voor chemisch versterkte fotoresisten (CAR) te maken. Het verbetert de resolutie, het belichtingscontrast en de weerstand tegen droog etsen van de fotoresist, wat geschikt is voor de productie van geïntegreerde circuits (IC's) en geheugenchips in geavanceerde processen van 65nm en lager.

2. Geavanceerde materialen voor de verpakking van halfgeleiders:

Gebruikt als fotogevoelige diëlektrische lagen en passiveringsmaterialen voor verpakking op waferniveau (WLP) en fan-out verpakking, met patroonmogelijkheden met hoge resolutie en chemische weerstand, geschikt voor geavanceerde verpakkingsprocessen zoals chipstapeling en TSV (Through-Silicon Via).

3. Flat Panel Display (FPD) fotolak:

Gebruikt als pixeldefinitielaag (PDL) en planarisatielaag (PLN) fotoresist voor LCD/TFT- en OLED-displaypanelen. Verbetert de grafische precisie en processtabiliteit en is geschikt voor de productie van displays met hoge resolutie en smalle randen.

4. Polymeer materiaalmodificatie:

Gebruikt als comonomeer in de synthese van polyacrylaten, polyimiden, enz., waarbij een stijve adamantaanstructuur wordt geïntroduceerd om de thermische stabiliteit (Tg kan oplopen tot boven 150℃), mechanische sterkte en oplosmiddelbestendigheid van het polymeer te verbeteren, geschikt voor de bereiding van hittebestendige technische kunststoffen en speciale elastomeren.

5. UV-uithardende 3D drukhars:

Gebruikt voor cross-linking modificatie van SLA/DLP UV-uithardende 3D-printing harsen, het verbeteren van de hittebestendigheid, maatnauwkeurigheid en oppervlaktehardheid van gegoten onderdelen, geschikt voor rapid prototyping in gebieden met hoge eisen aan materiaalprestaties, zoals lucht-en ruimtevaart en precisie mallen.

6. Elektronische verpakking en coatings:

Gebruikt als isolerende coatings en inkapsellijmen voor elektronische componenten, met een hoge temperatuurbestendigheid, lage vochtabsorptie en uitstekende diëlektrische eigenschappen, geschikt voor de bescherming en verpakking van elektronische apparaten onder werkomstandigheden met hoge temperaturen.

7. Farmaceutische en fijnchemische tussenproducten:

Gebruikt in de synthese van tussenproducten voor medicijnen die adamantaanstructuren bevatten (zoals antivirale en antitumorprecursoren), waarbij het stijve skelet wordt gebruikt om de metabolische stabiliteit en targeting van medicijnmoleculen te optimaliseren, geschikt voor geneesmiddelenonderzoek en -ontwikkeling en fijnchemische synthese.

8. Speciale coatings en inkten:

Wordt gebruikt in industriële coatings en drukinkten bij hoge temperatuur en hoge hardheid, en verbetert de weerbestendigheid, krasvastheid en chemische corrosiebestendigheid van de coatings. Geschikt voor speciale coatingtoepassingen zoals auto-onderdelen en apparatuur bij hoge temperaturen.