1. Inisiator Fotopolimerisasi Kationik:

Digunakan pada resin epoksi pengawet UV, vinil eter, dan sistem lainnya, seperti pelapis pengawet UV, tinta, perekat, dan bahan kemasan elektronik. Paparan sinar UV menghasilkan asam, memulai polimerisasi kationik dan meningkatkan efisiensi pengawetan dan kinerja pelapisan (kekerasan, daya rekat, ketahanan terhadap bahan kimia).

2. Generator Photoacid (PAG) untuk Fotoresis:

Sebagai PAG inti dalam fotoresis yang diperkuat secara kimiawi, cocok untuk proses litografi g-line, i-line, dan proses litografi UV lainnya. Digunakan dalam fabrikasi pola tingkat mikron semikonduktor, LCD, dan PCB. Paparan sinar UV menghasilkan asam, memulai pengikatan silang resin atau degradasi, memungkinkan transfer pola.

3. Pengawetan Bahan Mikroelektronik:

Digunakan dalam pemotretan perekat kemasan mikroelektronik, bahan dielektrik, dan tinta masker solder papan sirkuit cetak (PCB), yang berkontribusi pada manufaktur presisi tinggi dan meningkatkan keandalan komponen elektronik.

4. Bahan Kimia Halus dan Sintesis Organik:

Digunakan sebagai katalis sumber asam dalam sintesis organik untuk reaksi yang dikatalisis asam tertentu (seperti reaksi eterifikasi, kondensasi, dan siklisasi), dan dalam sintesis dan modifikasi bahan polimer fungsional, menyediakan lingkungan asam yang dapat dikontrol.

5. Bahan Cetak 3D:

Diterapkan dalam formulasi resin pencetakan 3D fotopolimerisasi (SLA/DLP) sebagai inisiator kationik, meningkatkan kekuatan mekanis, ketahanan panas, dan akurasi dimensi komponen yang dicetak, memenuhi tuntutan pencetakan 3D berkinerja tinggi.