1. Sintesis Resin Fotoresis ArF:

Sebagai komonomer utama untuk fotoresis ArF (193nm), digunakan untuk menyiapkan resin utama untuk fotoresis yang diperkuat secara kimiawi (CAR), meningkatkan resolusi, kontras pencahayaan, dan ketahanan etsa kering fotoresis, cocok untuk sirkuit terpadu (IC) dan pembuatan chip memori dalam proses lanjutan 65nm ke bawah.

2. Bahan Kemasan Semikonduktor Canggih:

Digunakan sebagai lapisan dielektrik fotosensitif dan bahan pasif untuk pengemasan tingkat wafer (WLP) dan pengemasan fan-out, memberikan kemampuan pemolaan resolusi tinggi dan ketahanan terhadap bahan kimia, cocok untuk proses pengemasan tingkat lanjut seperti penumpukan chip dan TSV (Through-Silicon Via).

3. Fotoresist Layar Panel Datar (FPD):

Digunakan sebagai fotoresis lapisan definisi piksel (PDL) dan lapisan planarisasi (PLN) untuk panel layar LCD/TFT dan OLED, meningkatkan presisi grafis dan stabilitas proses, cocok untuk pembuatan panel layar beresolusi tinggi dengan bezel sempit.

4. Modifikasi Bahan Polimer:

Digunakan sebagai komonomer dalam sintesis poliakrilat, polimida, dll., Memperkenalkan struktur adamantana yang kaku untuk meningkatkan stabilitas termal (Tg dapat mencapai di atas 150 ℃), kekuatan mekanik, dan ketahanan pelarut polimer, cocok untuk pembuatan plastik rekayasa tahan suhu tinggi dan elastomer khusus.

5. Resin Pencetakan 3D UV-Curing:

Digunakan untuk modifikasi tautan silang resin pencetakan 3D UV-curing SLA/DLP, meningkatkan ketahanan panas, akurasi dimensi, dan kekerasan permukaan komponen yang dicetak, cocok untuk pembuatan prototipe cepat di bidang yang memiliki persyaratan kinerja material tinggi seperti kedirgantaraan dan cetakan presisi.

6. Kemasan dan Pelapis Elektronik:

Digunakan sebagai pelapis isolasi dan perekat enkapsulasi untuk komponen elektronik, memberikan ketahanan suhu tinggi, penyerapan kelembaban rendah, dan sifat dielektrik yang sangat baik, cocok untuk perlindungan dan pengemasan perangkat elektronik dalam kondisi kerja suhu tinggi.

7. Bahan Kimia Menengah Farmasi dan Kimia Halus:

Digunakan dalam sintesis zat antara obat yang mengandung struktur adamantana (seperti prekursor obat antivirus dan antitumor), memanfaatkan kerangkanya yang kaku untuk mengoptimalkan stabilitas metabolisme dan penargetan molekul obat, cocok untuk penelitian dan pengembangan obat serta sintesis kimiawi yang baik.

8. Pelapis dan Tinta Khusus:

Digunakan pada pelapis dan tinta cetak industri bersuhu tinggi dan memiliki kekerasan tinggi, meningkatkan ketahanan terhadap cuaca, ketahanan terhadap goresan, dan ketahanan terhadap korosi kimiawi pada pelapis. Cocok untuk aplikasi pelapisan khusus seperti suku cadang otomotif dan peralatan bersuhu tinggi.