CHLUMICRYL® IPAMA Monomer / 2-Isopropyl-2-Adamantylmethacrylat CAS 297156-50-4

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Produktname: IPAMA

CAS: 297156-50-4

Synonyme: Methacrylsäure-2-Isopropyl-2-Adamantyl-Ester; 2-Isopropyl-2- adamantylmethacrylat; 2-Isopropyl-2-methacryloyloxyadamantan

Beschreibung

IPAMA Monomer / 2-Isopropyl-2-Adamantylmethacrylat CAS 297156-50-4

Erscheinungsbild Weißes bis fast weißes Pulver bis Kristall
Reinheit(GC) min. 99,0 %
Schmelzpunkt 38,0 bis 42,0 °C
Schmelzpunkt 40 °C
Flammpunkt 136 °C

Anwendungen: Photoresist

Verpackung und Versand:

Verpackung:Fass/Karton 

Lieferung: innerhalb von 5-7 Arbeitstagen.

Lagerung:

Sie werden in einem trockenen, sauberen Lager mit guter Belüftung aufbewahrt.

Vermeiden Sie Licht- und Hitzeeinwirkung.

Schutz des Produkts vor Auslaufen, Regen und Sonneneinstrahlung während des Transports.

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CHLUMICRYL® AAEM Monomer  CAS 21282-97-3 Acetylacetoxyethylmethacrylat
CHLUMICRYL® ADAMA Monomer CAS 16887-36-8 1-Adamantylmethacrylat
CHLUMICRYL® AMA Monomer CAS 96-05-9 Allylmethacrylat
CHLUMICRYL® BDDMA CAS 2082-81-7 1,4-Butandioldimethacrylat
CHLUMICRYL® BDDMP Monomer CAS 92140-97-1 1,4-Butandiol Di(3-mercaptopropionat)
CHLUMICRYL® Bis-GMA Monomer  CAS 1565-94-2 Bisphenol A Glycidylmethacrylat
CHLUMICRYL® BZA Monomer CAS 2495-35-4  Benzylprop-2-enoat
CHLUMICRYL® BZMA Monomer CAS 2495-37-6 Benzylmethacrylat
CHLUMICRYL® CHA Monomer  CAS 3066-71-5 Cyclohexylprop-2-enoat
CHLUMICRYL® CHMA  CAS 101-43-9 Cyclohexylmethacrylat
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CHLUMICRYL® DCPEMA Monomer CAS 68586-19-6 Dicyclopentenyloxyethylmethacrylat
CHLUMICRYL® DCPMA-Monomer CAS 30798-39-1 Dihydrodicyclopentadienylmethacrylat
CHLUMICRYL® DEAEA Monomer CAS 2426-54-2 2-(Diethylamino)ethylprop-2-enoat
CHLUMICRYL® DEAM Monomer CAS-NR. 105-16-8 Diethylaminoethylmethacrylat
CHLUMICRYL® DMAEA Monomer CAS 2439-35-2 Dimethylaminoethylacrylat
CHLUMICRYL® DMAEMA CAS 2867-47-2 N,M-Dimethylaminoethylmethacrylat
CHLUMICRYL® DMES  CAS 3570-55-6 2,2′-Thiodiethanethiol/Bis(2-mercaptoethyl)sulfid/Dimercapto-Diethylsulfid/THIOCURE DMDS/Polythiol DMDS/Mercaptan DMDS
CHLUMICRYL® DMPT  CAS 131538-00-6 THIOCURE DMPT
CHLUMICRYL® ECPMA Monomer CAS 266308-58-1 1-Ethylcyclopentylmethacrylat
CHLUMICRYL® EEMA  CAS 2370-63-0 2-Ethoxyethyl-2-methylprop-2-enoat
CHLUMICRYL® EGDMA Monomer CAS 97-90-5 Ethylenglykol-Dimethacrylat
CHLUMICRYL® EGDMP Monomer CAS 22504-50-3 Ethylenglykol-Bis(3-mercaptopropionat)
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CHLUMICRYL® EO4-BPADA Monomer  CAS 64401-02-1 Ethoxyliertes Bisphenol-A-Diacrylat
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CHLUMICRYL® i-BMA  CAS 97-86-9 Isobutylmethacrylat
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CHLUMICRYL® MPEG Monomer CAS 26915-72-0 MPEG-Monomer
CHLUMICRYL® Muscomer Tricyclodecanedimethanol  CAS 26896-48-0 Muscomer Tricyclodecanedimethanol
CHLUMICRYL® N,N-Dimethylacrylamid  CAS 2680-03-7 N,N-Dimethylacrylamid
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CHLUMICRYL® ACMO Monomer  CAS 5117-12-4 4-Acryloylmorpholin
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CHLUMICRYL® EO3-TMPTA Monomer CAS 28961-43-5 Ethoxyliertes Trimethylolpropantriacrylat
CHLUMICRYL® EOEOEA Monomer CAS 7328-17-8 2-(2-Ethoxyethoxy)ethylacrylat
CHLUMICRYL® GPTA ( G3POTA ) Monomer CAS 52408-84-1 GLYCERIN-PROPOXYTRIACRYLAT
CHLUMICRYL® HDDA Monomer  CAS 13048-33-4 Hexamethylen-Diacrylat
CHLUMICRYL® HEMA Monomer CAS 868-77-9  2-Hydroxyethylmethacrylat
CHLUMICRYL® HPMA-Monomer CAS 27813-02-1 2-Hydroxypropylmethacrylat
CHLUMICRYL® IBOA Monomer   CAS 5888-33-5 Isobornylacrylat
CHLUMICRYL® IBOMA  CAS 7534-94-3 Isobornylmethacrylat
CHLUMICRYL® IDA Monomer  CAS 1330-61-6 Isodecylacrylat
CHLUMICRYL® IPAMA Monomer CAS 297156-50-4 2-Isopropyl-2-adamantylmethacrylat
CHLUMICRYL® LMA Monomer  CAS-NR. 142-90-5 Laurylmethacrylat
CHLUMICRYL® NP-4EA Monomer CAS 50974-47-5 (4) ethoxyliertes Nonylphenol
CHLUMICRYL® NPGDA Monomer  CAS 2223-82-7 Neopentylglykol-Diacrylat
CHLUMICRYL® PDDA Phthalat Diethylenglykol-Diacrylat
CHLUMICRYL® PEGDA Monomer CAS 26570-48-9 Polyethylenglykol-Diacrylat
CHLUMICRYL® PEGDMA Monomer CAS 25852-47-5 Poly(ethylenglykol)dimethacrylat
CHLUMICRYL® PETA Monomer  CAS 3524-68-3 PETA; 2-(Hydroxymethyl)-2-[[(1-oxoallyl)oxy]methyl]-1,3-propandiyldiacrylat; 3-(Acryloyloxy)-2-[(Acryloyloxy)methyl]-2-(hydroxymethyl)propylacrylat
CHLUMICRYL® PHEA Monomer CAS 48145-04-6  2-PHENOXYETHYLACRYLAT
CHLUMICRYL® PO2-NPGDA  CAS 84170-74-1
CHLUMICRYL® TEGDMA Monomer CAS 109-16-0 Triethylenglykol-Dimethacrylat
CHLUMICRYL® THFA Monomer CAS 2399-48-6 Tetrahydrofurfurylacrylat
CHLUMICRYL® TMPTA Monomer CAS 15625-89-5 Trimethylolpropantriacrylat
CHLUMICRYL® TMPTMA Monomer CAS 3290-92-4 Trimethylolpropantrimethacrylat
CHLUMICRYL® TPGDA Monomer CAS 42978-66-5 Tripropylenglykol-Diacrylat
CHLUMICRYL® UV Funktionelle Monomere Acrylmonomere

 

IPAMA Monomer Anwendungsszenarien

1. Synthese von ArF-Photoresist-Harz:

Als wichtiges Comonomer für ArF (193nm) Photoresists wird es zur Herstellung des Hauptharzes für chemisch verstärkte Photoresists (CAR) verwendet, um die Auflösung, den Belichtungskontrast und die Trockenätzbeständigkeit des Photoresists zu verbessern, der für die Herstellung von integrierten Schaltungen (IC) und Speicherchips in fortgeschrittenen Prozessen von 65nm und darunter geeignet ist.

2. Fortschrittliche Halbleiter-Packaging-Materialien:

Sie werden als lichtempfindliche dielektrische Schichten und Passivierungsmaterialien für das Wafer-Level-Packaging (WLP) und Fan-out-Packaging verwendet und bieten hochauflösende Strukturierungsmöglichkeiten und chemische Beständigkeit, die sich für fortschrittliche Packaging-Verfahren wie Chip-Stacking und TSV (Through-Silicon Via) eignen.

3. Flachbildschirm (FPD) Photoresist:

Wird als Fotolack für die Pixeldefinitionsschicht (PDL) und die Planarisierungsschicht (PLN) für LCD/TFT- und OLED-Anzeigetafeln verwendet und verbessert die grafische Präzision und die Prozessstabilität; geeignet für die Herstellung von hochauflösenden Anzeigetafeln mit schmaler Blende.

4. Modifizierung von Polymermaterialien:

Wird als Comonomer bei der Synthese von Polyacrylaten, Polyimiden usw. verwendet, wobei eine starre Adamantanstruktur eingeführt wird, um die thermische Stabilität (Tg kann über 150℃ erreichen), die mechanische Festigkeit und die Lösungsmittelbeständigkeit des Polymers zu verbessern; geeignet für die Herstellung von hochtemperaturbeständigen technischen Kunststoffen und Spezialelastomeren.

5. UV-härtendes 3D-Druck-Harz:

Wird für die Vernetzungsmodifikation von SLA/DLP UV-härtenden 3D-Druckharzen verwendet und verbessert die Wärmebeständigkeit, die Maßgenauigkeit und die Oberflächenhärte von Formteilen. Es eignet sich für das Rapid Prototyping in Bereichen mit hohen Anforderungen an die Materialleistung, z. B. in der Luft- und Raumfahrt und bei Präzisionsformen.

6. Elektronische Verpackungen und Beschichtungen:

Sie werden als isolierende Beschichtungen und verkapselnde Klebstoffe für elektronische Bauteile verwendet und bieten eine hohe Temperaturbeständigkeit, eine geringe Feuchtigkeitsaufnahme und ausgezeichnete dielektrische Eigenschaften, die sich für den Schutz und die Verpackung elektronischer Geräte unter Hochtemperaturbedingungen eignen.

7. Pharmazeutische und feinchemische Zwischenprodukte:

Wird für die Synthese von Arzneimittelzwischenprodukten mit Adamantan-Strukturen (z. B. antivirale und antitumorale Arzneimittelvorstufen) verwendet, wobei sein starres Gerüst zur Optimierung der metabolischen Stabilität und des Targetings von Arzneimittelmolekülen genutzt wird. Es eignet sich für die Arzneimittelforschung und -entwicklung sowie für die feinchemische Synthese.

8. Spezialbeschichtungen und Druckfarben:

Wird in industriellen Beschichtungen und Druckfarben mit hohen Temperaturen und hoher Härte verwendet, um die Wetterbeständigkeit, Kratzfestigkeit und chemische Korrosionsbeständigkeit der Beschichtungen zu verbessern. Geeignet für spezielle Beschichtungsanwendungen wie Automobilteile und Hochtemperaturgeräte.

1 Bewertung für CHLUMICRYL® IPAMA Monomer / 2-isopropyl-2-adamantyl methacrylate CAS 297156-50-4

  1. Derrick Back -

    Schnelle Lieferung, ausgezeichnete Qualität. Sehr zu empfehlen

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