1. Reactieve verdunningsmiddelen en crosslinkingmonomeren voor UV-uithardend materiaal:

Wordt gebruikt in UV-uithardende coatings, inkten en kleefstoffen om de viscositeit van het systeem te verminderen en deel te nemen aan de polymerisatie, waardoor de hechting van coatings/kleeflagen, de flexibiliteit, de weerbestendigheid en de weerstand tegen vergeling worden verbeterd. Geschikt voor hoog-efficiënte uithardingstoepassingen zoals 3C productcoatings, drukwerk en verpakking, en bescherming van elektronische componenten.

2. Rubber en kunststof co-crosslinking agents:

Wordt gebruikt als co-crosslinkingagens voor rubber (zoals natuurrubber en styreen-butadieenrubber) en kunststoffen (zoals PVC en ABS), ter verbetering van de crosslinkingdichtheid, mechanische sterkte en verouderingsbestendigheid. Geschikt voor de productie van producten zoals banden, afdichtingen en kunststofplaten.

3. Rubbermodificatoren:

Gebruikt voor de chemische modificatie van rubber, waarbij tetrahydrofuraanringen worden geïntroduceerd om de verwerkbaarheid, koudebestendigheid en olieweerstand van rubber te verbeteren. Geschikt voor het optimaliseren van de prestaties van speciale rubberproducten.

4. Coating en inkt filmvormende componenten:

Gebruikt in solventgebaseerde en watergebaseerde coatings en drukinkten als filmvormende stof om de flexibiliteit, duurzaamheid en hechting van coatings op substraten zoals PC en PET te verbeteren. Geschikt voor toepassingen zoals interieurlakken voor auto's, coatings voor kunststofonderdelen en verpakkingsinkten.

5. Tweecomponenten acrylaatlijmcomponenten:

Gebruikt in structurele lijmen en drukgevoelige lijmen om de hechtsterkte en de weerstand tegen vochtige warmteveroudering te verbeteren. Geschikt voor het lijmen van metalen, kunststoffen en composietmaterialen, vooral geschikt voor toepassingen die een hoge flexibiliteit vereisen.

6. Grondstoffen voor fotopolymeer en fotolak:

Wordt gebruikt bij de bereiding van fotopolymeermaterialen en micro-elektronische fotolakken en verbetert de resolutie en etsweerstand van fotolakken. Geschikt voor de productie van halfgeleiderchips.

7. Copolymeermodificatie van polymeermaterialen:

Copolymerisatie met monomeren zoals methylmethacrylaat en styreen om functionele copolymeren te maken, gebruikt bij kunststofmodificatie en vezelbehandeling om de verfbaarheid, antistatische eigenschappen en mechanische eigenschappen van materialen te verbeteren.

8. Fijnchemische tussenproducten:

Gebruikt in de synthese van fijne chemische tussenproducten zoals farmaceutica en pesticiden, vooral geschikt voor syntheseroutes waarbij tetrahydrofuraanringen en acrylaat functionele groepen moeten worden ingebracht.

9. Grondstoffen voor 3D-printing fotocurabele hars:

Gebruikt in fotocurabele harsformules voor 3D-printen om de harsviscositeit te verminderen en de mechanische sterkte en oppervlaktegladheid van uitgeharde producten te verbeteren, geschikt voor snelle prototyping-toepassingen met hoge precisie.

10. Appreteermiddelen voor vezels en weefsels:
Gebruikt voor het coaten en afwerken van textiel, het verbeteren van kreukweerstand, slijtvastheid en waterbestendigheid van stoffen, geschikt voor functionele behandeling van hoogwaardige kleding en industriële stoffen.