CHLUMICRYL® EO4-BPADA Monomère CAS 64401-02-1

Dénomination chimique : diacrylate de bisphénol A éthoxylé (4)

Numéro CAS : 64401-02-1

Synonymes :2,2-BIS[4-(2-ACRYLOXYETHOXY)PHENYL]PROPANE;Bis(4-acryloxypolyéthoxyphényl)propane;BPA(4EO)DA;Photomer 4028 F;Laromer PO 9114

MF : C25H28O6

Essai : 98% min

Description

Monomère EO4-BPADA CAS 64401-02-1

Apparence : liquide transparent
Couleur (APHA) : ≤150
Indice d'acidité (mgkOH / g) : ≤1.0
Viscosité (cps @ 25 ℃) : 800-1000
Humidité% : ≤0.2
Inhibiteur de polymérisation (ppm) : ≤500
Indice de réfraction : 1.537
Tension de surface Dynes / cm, 20 ℃ : 42.1
La température de transition vitreuse Tg, ℃ : 42

EO4-BPADA Applications du monomère : 

Revêtements pour le bois, revêtements pour le PVC, revêtements pour le plastique, revêtements pour le métal, encres d'impression offset, impression flexographique, sérigraphie, vernis

Monomère EO4-BPADA Emballage et expédition :

Emballage : tambour

Livraison : dans un délai de 5 à 7 jours ouvrables.

EO4-BPADA Stockage du monomère :

Les produits sont conservés dans un entrepôt sec, propre et bien ventilé.

Éviter l'exposition à la lumière et à la chaleur.

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CHLUMICRYL® DMAEMA CAS 2867-47-2 Méthacrylate de N,M-diméthylaminoéthyle
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CHLUMICRYL® EEMA  CAS 2370-63-0 2-méthoxyéthyle 2-méthylprop-2-énoate
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CHLUMICRYL® EGDMP Monomère CAS 22504-50-3 Bis(3-mercaptopropionate) d'éthylène glycol
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CHLUMICRYL® i-BMA  CAS 97-86-9 Méthacrylate d'isobutyle
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CHLUMICRYL® n-BMA  CAS 97-88-1 Méthacrylate de n-butyle
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CHLUMICRYL® DPGDA Monomère CAS 57472-68-1 Diénoate de dipropylène glycol
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CHLUMICRYL® HDDA Monomère  CAS 13048-33-4 Diacrylate d'hexaméthylène
Monomère CHLUMICRYL® HEMA CAS 868-77-9  Méthacrylate de 2-hydroxyéthyle
CHLUMICRYL® HPMA Monomère CAS 27813-02-1 Méthacrylate de 2-hydroxypropyle
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CHLUMICRYL® IPAMA Monomère CAS 297156-50-4 Méthacrylate de 2-isopropyl-2-adamantyle
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CHLUMICRYL® NP-4EA Monomère CAS 50974-47-5 (4) nonylphénol éthoxylé
CHLUMICRYL® NPGDA Monomère  CAS 2223-82-7 Diacrylate de néopentyle et de glycol
CHLUMICRYL® PDDA Phtalate diacrylate de diéthylène glycol
CHLUMICRYL® PEGDA Monomère CAS 26570-48-9 Diacrylate de polyéthylène glycol
CHLUMICRYL® PEGDMA Monomère CAS 25852-47-5 Diméthacrylate de poly(éthylène glycol)
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CHLUMICRYL® PHEA Monomère CAS 48145-04-6  ACRYLATE DE 2-PHÉNOXYÉTHYLE
CHLUMICRYL® PO2-NPGDA  CAS 84170-74-1
CHLUMICRYL® TEGDMA Monomère CAS 109-16-0 Diméthacrylate de triéthylène glycol
CHLUMICRYL® THFA Monomère CAS 2399-48-6 Acrylate de tétrahydrofurfuryle
CHLUMICRYL® TMPTA Monomère CAS 15625-89-5 Triacrylate de triméthylolpropane
CHLUMICRYL® TMPTMA Monomère CAS 3290-92-4 Triméthacrylate de triméthylolpropane
CHLUMICRYL® TPGDA Monomère CAS 42978-66-5 Diacrylate de tripropylène glycol
Monomères fonctionnels CHLUMICRYL® UV Monomères acryliques

 

Scénarios d'application du monomère EO4-BPADA

1. Revêtements durcissant aux UV :

Utilisé dans la préparation de revêtements durcissant aux UV pour des substrats tels que les métaux, les plastiques, le bois et les composants électroniques. Ces revêtements durcissent rapidement pour former des revêtements très durs, chimiquement résistants et fortement adhésifs, adaptés aux applications de revêtement à haut rendement telles que les peintures de retouche automobile, les couches de finition pour meubles et les peintures d'isolation électronique.

2. Encres d'impression et encres pour masques de soudure :

Utilisé comme composant clé dans les encres de sérigraphie UV, les encres flexographiques et les encres pour masques de soudure de circuits imprimés, il améliore la vitesse de durcissement, la résistance à l'abrasion, la résistance aux solvants et la résolution, garantissant ainsi la clarté et la durabilité des motifs imprimés.

3. Adhésifs durcissant aux UV :

Utilisé dans la formulation d'adhésifs durcissant aux UV, il améliore la force d'adhérence, la résistance à l'eau et la résistance à la chaleur. Convient au collage structurel et à l'encapsulation de matériaux tels que le verre, les métaux et les plastiques, par exemple pour la fixation de composants électroniques et l'assemblage d'appareils optiques.

4. Photorésines et matériaux électroniques :

Utilisé dans la formulation de résine photosensible pour semi-conducteurs, de résine photosensible pour films secs de circuits imprimés et de résine photosensible pour panneaux d'affichage, il améliore la résistance à la gravure, la résolution et la stabilité thermique de la résine photosensible, facilitant ainsi le traitement et la fabrication de lignes et de motifs fins.

5. Modification de la réticulation des matériaux polymères :

Utilisé comme agent de réticulation pour la modification des matériaux polymères tels que le caoutchouc et les résines synthétiques. Un réseau dense de polymères est construit par photopolymérisation ou polymérisation thermique, ce qui améliore la résistance mécanique, la résistance au vieillissement et la stabilité dimensionnelle des matériaux.

6. Résines d'impression 3D :

Utilisé dans la formulation de consommables d'impression 3D photodurcissables, améliorant la précision, l'état de surface et les propriétés mécaniques des pièces imprimées. Convient aux processus d'impression 3D de haute précision tels que SLA et DLP, répondant aux besoins de prototypage rapide de modèles et de pièces fonctionnelles.

7. Préparation du matériel optique :

Utilisé dans la production de résines optiques à indice de réfraction élevé et à faible retrait, applicable aux lentilles optiques, aux revêtements de fibres optiques et aux fibres optiques, assurant la transmission de la lumière et la stabilité structurelle des matériaux optiques.

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