1. Monomère de base de la résine photosensible ArF :

Utilisé dans la préparation de polymères photorésistants chimiquement amplifiés pour la lithographie par laser excimer ArF à 193 nm, offrant une transparence à la lumière de longueur d'onde 193 nm et permettant le transfert de motifs fins dans les processus avancés de fabrication de puces semi-conductrices (7-45 nm).

2. Préparation de l'adhésif anaérobie Matière première :

En tant que co-monomère dans les adhésifs anaérobies, il travaille avec d'autres composants pour optimiser les performances de durcissement, le couple de rupture et le couple de désassemblage de l'adhésif, ce qui convient aux applications d'assemblage industriel telles que le verrouillage des filetages et l'étanchéité.

3. Composant adhésif thermiquement libérable :

Combiné à des monomères tels que le méthacrylate de méthyle, il est utilisé dans les adhésifs thermofixables pour réduire la force de répulsion entre l'adhésif et la surface de contact, améliorer l'adhérence initiale et permettre un retrait facile après chauffage, réduisant ainsi la contamination de la surface collée. Convient pour la fixation temporaire et le traitement de précision des composants électroniques.

4. Intermédiaire de synthèse des polymères fonctionnels :

Utilisé dans la synthèse de polymères spéciaux, en introduisant des groupes fonctionnels cyclopentyle et ester pour contrôler la résistance aux intempéries, la flexibilité et la stabilité environnementale du matériau. Convient à la préparation de revêtements, d'élastomères et d'autres matériaux polymères fonctionnels de haute performance.

5. Chimie fine et matériaux médicaux :

Utilisé dans la synthèse de matériaux de restauration dentaire et de matériaux composites haut de gamme, il améliore la résistance mécanique et la durabilité des matériaux. Convient pour des applications en médecine buccale, en aérospatiale et dans d'autres domaines où les exigences en matière de performance des matériaux sont strictes.

6. Monomère de réticulation du matériau durcissant aux UV :

Utilisé dans le système de réticulation des vernis et encres à séchage UV, il réduit la viscosité du système et améliore la dureté, l'adhérence et la résistance chimique du vernis polymérisé. Convient aux applications de durcissement à haut rendement telles que le revêtement de produits 3C et l'impression d'emballages.